SF-79N
高可靠非硅系·高功率电子散热垫片
SF-79N 依据 TDS 规格设计，锁定高可靠热管理需求。在高导热、机械稳定与无硅氧烷污染之间取得平衡，适合长期运转的高可靠系统。
导热系数：9.0 W/m-K (Hot Disk)
材料硬度 / 压缩特性：Shore OO 55，兼具结构支撑与压缩贴合
材料类型：陶瓷填充聚烯烃弹性体非硅系导热垫片
核心优势：在高导热、机械稳定与无硅氧烷污染之间取得平衡，适合长期运转的高可靠系统。
产品介绍
详情介绍
性能定位与热管理价值
SF-79N 以 9.0 W/m-K (Hot Disk) 为主要导热表现，搭配 Shore OO 55，兼具结构支撑与压缩贴合。此设计能协助热源与散热模组建立稳定热路径，降低界面热阻，让高密度电子产品在长时间运作下维持更稳定的散热效率。
非硅系洁净与低应力设计
非硅系弹性体配方可降低低分子硅氧烷迁移与挥发风险，对光学、通讯与敏感电子系统更友善。柔软压缩结构能贴合高低差与粗糙表面，提升界面接触稳定度。
建议应用情境
SF-79N 适用于GPU/CPU 热管理、AI 服务器、数据中心、网络通信设备、光学模组、车用与工业电子。 其材料特性特别适合需要兼顾导热效率、组装可靠度与长期稳定性的产品设计。